一、微型甩帶機(jī)/高真空單輥旋淬系統(tǒng)產(chǎn)品概述：

系統(tǒng)主要由感應(yīng)熔煉真空室、爐門、單輥旋淬裝置、感應(yīng)熔煉機(jī)構(gòu)、電動(dòng)直線進(jìn)給機(jī)構(gòu)、噴鑄系統(tǒng)、工作氣路、系統(tǒng)抽氣、真空測(cè)量及電氣控制系統(tǒng)、安裝機(jī)架等各部分組成。

設(shè)備用途：

高真空單輥旋淬及噴鑄系統(tǒng)是用來制備和開發(fā)亞穩(wěn)材料(如非晶態(tài)材料)的專用設(shè)備，該設(shè)備具有制備金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實(shí)驗(yàn)工作，廣泛用于新型稀土永磁材料、非晶軟磁材料及納米材料科學(xué)的開發(fā)與研究。

二、微型甩帶機(jī)/高真空單輥旋淬系統(tǒng)主要技術(shù)參數(shù)

1.樣品最大熔煉量：20g;

2.輥輪尺寸：φ200mmx40(不帶水冷);

3.銅棍速度：0-6000r/min;

4.真空度：根據(jù)真空系統(tǒng)確定

5.熔煉電源功率：7.5KW;15Kw

6.熔煉溫度：0-2000℃（根據(jù)坩堝與功率確定）

7.熔煉坩堝：石英，石墨和氮化硼

8.條帶寬度：1-10mm;

9.真空腔尺寸：300×300×480mm (L*W*H)

10.設(shè)備尺寸：620*560*780m（L*W*H）

11.桌面式設(shè)計(jì)，占地空間小，特別節(jié)約實(shí)驗(yàn)空間和能源

設(shè)備工程條件

1、設(shè)備總功率: 18Kw

2、總進(jìn)線要求:三相，380V, 50Hz

3、設(shè)備總重量:^ 220Kg

4、設(shè)備占地面積: 1000*600*700mm (長(zhǎng)*寬*高）

典型應(yīng)用：熔態(tài)單輥旋淬法制備條帶非晶材料，以及真空噴鑄法制備大塊非晶材料。適用于大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行新材料的科研